《硅片薄膜厚度的测试 光学反射法》征求意见稿
本文件规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅或多晶薄膜层厚度的方法。
本文件适用于测试在硅片上生长的二氧化硅和多晶硅薄膜的厚度，其厚度范围为 15nm~1E5nm，
本方法也适用于所有光滑的、半透明的和低吸收系数的薄膜厚度测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等。
《硅片薄膜厚度的测试 光学反射法》征求意见稿
2020-10-15 14:50 浏览:176 下载:29
| 标准类别 | 国家标准 |
|---|---|
| 标准状态 | 即将实施 (标准状态仅供参考) |
| 颁发部门 | 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 |
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