4月5日，央视《新闻联播》聚焦中国电子科技集团有限公司在离子注入机等关键核心集成电路装备科研攻关上取得的可喜进展，展现了中国电科在推动我国集成电路高端装备自主创新上的责任与担当。

       4月4日，中国电科装备子集团牵头实施的“大束流离子注入机装备及工艺研发”项目，以同类奖项排名第一的成绩，荣获北京市科学技术进步一等奖。这是自1月份装备子集团参与研制的新一代核心射频芯片项目获得“国家科技进步一等奖”以来，在科技创新领域获得的又一含金量十足的奖项，标志着装备子集团在集成电路核心装备自主创新方面取得重大突破。

       离子注入机是集成电路制造至关重要的核心装备。

       作为电子制造高端装备领域的“国家队”，中国电科始终致力于为国家解决高端装备关键技术自主创新难题，坚持将离子注入机作为产业发展的主攻方向之一。经过数十年的攻关，在国家科技部02重大专项等项目的支持下，装备子集团不断突破离子注入机关键核心技术，累计取得发明专利101项，国际专利2项，实现了国产离子注入装备从消化吸收到自主创新再至产业化的跨越式发展。