“1.5米扫描干涉场曝光系统”项目监理检查会于12月中旬在长春光机所光栅中心会议室召开。“1.5米扫描干涉场曝光系统”是国家自然科学基金委国家重大科研仪器设备研制专项。会议力邀科研系统骨干等10余人参加。该项目组为国家级工程任务作出了更大贡献。会议的末尾，与会人员对仪器设备运行情况进行了现场考察。

       监理与检测是整个监理工作的重要环节,也是项目质量检测体系中的中间环节。监理检查是质量控制的主要手段。准确的试验检测数据指导监理工作,对保证项目的质量具有重要意义。指出通过项目检查可以了解各项目进程，项目达标的情况,为项目的发展方向和改革做出合理的判断。

       大尺寸衍射光栅在很多科学技术领域都有很重要的应用。通过传统的单次曝光制造大尺寸、高质量的全息光栅受到曝光系统中透镜口径的限制。扫描干涉场曝光系统在制作方法上融合了全息曝光、激光直写以及机械刻划的部分特点，一种全息光栅制作方法。

       延伸阅读：

       扫描干涉场曝光系统干涉条纹测量与调整方法

       系统的基本工作原理为两束小尺寸的高斯光束在光栅基底表面形成干涉场，光栅基底置于二维工作台上随之进行二维运动，从而曝光得到大尺寸的全息光栅。扫描干涉场曝光系统本质上是通过动态扫描、步进拼接的方式曝光拼接得到全息光栅，干涉场中的干涉条纹的形态会以能量积分的形式记录至光刻胶上，干涉条纹的形态会直接或间接影响全息曝光对比度及刻线误差。扫描干涉场曝光系统中干涉条纹方向与扫描方向之间的夹角对扫描曝光对比度的影响，于基准光栅的干涉条纹方向调整方法。

       扫描干涉场曝光系统中干涉条纹周期精确测量方法

       扫描干涉场曝光系统中的干涉条纹周期是相位锁定系统的重要参数,为精确测量干涉条纹周期,根据扫描干涉场曝光系统的特点提出了分束棱镜移动测量干涉条纹周期的方法,根据高斯光束传播理论,分析了该方法的理论误差;提出了周期计数法对周期测量数据进行计算。为降低对系统二维工作台运行及稳定精度的要求,提出了小行程高精度位移台辅助测量周期的方法,并进行了相关实验验证。结果表明:小行程位移台辅助周期测量方法在原理上可行,对于干涉条纹线密度1800 line/mm的系统参数,小行程位移台辅助周期测量的重复性可达到1.08×10-5(σ值),曝光实验的实测值与理论模型之间一致性较好,验证了该周期测量方法的可行性。

       扫描干涉场曝光光束自动对准及其收敛性分析

       光束自动对准技术是扫描干涉场曝光系统中的关键技术之一,两曝光光束位置与角度的重合程度直接影响所制作光栅掩模的槽型质量。针对光束对准过程中光束调整的两个运动维度之间存在相互耦合的情况,推导了存在耦合时对准算法的收敛条件,并分析了光路中反射镜与解耦平面之间存在的装调误差对对准性能的影响。分析得出,装调误差降低了光束对准系统性能,甚至导致对准算法发散,通过调节光路中反射镜M_2和解耦平面的距离L_2与反射镜M_1和解耦平面的距离L_1的比值L_2/L_1可以优化系统的收敛性能。实验结果表明,当L_2/L_1较大时对准系统调节性能较差,收敛速率较低;当L_2/L_1较小时光束对准系统可以快速地收敛到目标位置,有效地对光束进行对准调节。推导证明与模拟分析可为光束对准系统以及整个曝光光路的设计提供理论指导。